SE-H系列半导体超纯水设备0.5-10t/h选型表

SE-H系列半导体超纯水设备

概述：

SE-H系列半导体芯片用超纯水制取设备，采用双级RO+UV+EDI+S-TGM+S-UV+S-MB+UF工艺，配合TOC降解器+脱气装置+后置微粒过滤装置+CLEAN洁净管+PVDF洁净管，使出水各项指标达到电子级半导体芯片用水标准。广泛应用于碳化硅、砷化镓晶片制作，晶元切割，芯片封测，电子级材料的制备等。本设备工艺成熟，出水质量稳定等特点，已有半导体行业多家成功应用案例。

产品特点：

1．工艺先进，出水质量好，颗粒少，纯度高；

2．安装简单，使用操作方便，一键操作；

3．自动化程度高、经济实用等特点；

4．适用多种水源、能耗低。

基础功能：

1．缺水保护；水满停机；

2．前置过滤器自清洗功能，设备运行成本更低；

3．水质在线监测功能，随时了解水质情况；

4．开停机时系统自动冲洗，延长机器使用寿命；

5．水质不合格报警或停机并报警。

设备选型表：

备注：

1、型号说明：如SE-500H-1.0，Q：品牌：Qclean仟净，-500为每小时产量500L,S为双级反渗透，E为EDI简称，H:代表电子级***别用水标准，1.0表示为工厂1.0版本标准；

2、本选型表为常规10T/H设备选型表，大于此产量，按工程机另行定制；

3、本设备高压部分采用304不锈钢制作，低压部分UPVC材质，抛光树脂后处理采用PVDF管道/CLEAN洁净管道；

4、选型表中外形尺寸供参考，可根据用户具体位置定制适合尺寸，数据为长X宽X高；尺寸中未包含水箱占地尺寸；

5、本选型表中可根据客户要求定制防爆型超纯水设备；

6、设备电压超出额定要求，可根据用户需求定制110V或200V等电压；

7、设备型号或技术性修改不另行通知，以出厂前咨询厂家客服为准。

产品应用范围：

1．碳化硅晶片生产，外延晶片；

2．晶元切割，半导体封测；

3．芯片清洗，晶片清洗；

4．载具清洗，半导体材料制备；

5．切割设备，清洗设备配套用水；

6．塑料材料，检测设备用水；

7．其它各种高端产品的清洗、配料、实验等。